SMIC започна тестването на DUV система за производство на 7 nm чипове, създадена в Китай

Успехът на китайската литографска компания SMIC в условията на нарастващи санкции от страна на САЩ в определен момент е бил възпрепятстван от възможността за получаване на достъп до определен клас оборудване, което преди това е било внасяно. Системите за литография от DUV (Deep Ultraviolet) клас, разработени от китайския стартъп едва наскоро успяха да бъдат въведени в производствения процес.

Както съобщава Financial Times, SMIC наскоро е започнала да тества скенер за дълбоко ултравиолетова литография (DUV), който е разработен от Yuliangsheng, китайска компания, основана не много отдавна в Шанхай. Вносът на такова оборудване в Китай от известно време е блокиран от санкциите на САЩ, въпреки че наличието му е от решаващо значение за способността на SMIC да установи производство на по-усъвършенствани чипове.

Преди това китайските производители на полупроводникови компоненти в тази област бяха силно зависими от холандската компания ASML, която трябва да спазва изискванията не само на европейските власти, но и на САЩ, тъй като в дейността си разчита на технологии с произход от САЩ. Друга китайска компания, SMEE също доставя DUV системи по собствен дизайн, но техните характеристики са по-ниски от тези, предлагани от Yuliangsheng.

Западните компании произвеждат най-съвременните чипове с помощта на EUVоборудване, но то също е забранено в Китай от дълго време, а китайските доставчици все още не са успели да разработят алтернатива. Дори в случая с DUV скенерите на Yuliangsheng не всички компоненти за производството им се произвеждат в Китай и следователно все още има какво да се направи по пътя към пълно заместване на вноса.

SMIC е доста доволна от резултатите от първите експерименти с такова оборудване, но е трудно да се прецени колко скоро то ще се използва за масово производство на чипове.

Освен това китайският производител на чипове ще може да въведе в съществуващата екосистема DUV скенери от ново поколение в най-добрия случай една година след получаването им в достатъчни количества. Специфичното оборудване е насочено към потапяща литография, която холандската ASML предлага и на своите клиенти извън Китай.

Формално тестваното оборудване с китайски произход е предназначено за производство на 28 nm чипове, но SMIC се надява да го приложи за производство на 7 nm чипове чрез използване на множество фотомаски и пасове. При благоприятно стечение на обстоятелствата това оборудване може да се използва и за производство на 5 nm чипове, на което SMIC отдавна се надява.

Китайската компания SiCarrier, която е акционер в Yuliangsheng експериментира с разработването на EUV оборудване, но е твърде рано да се говори за успех в тази област. Основана през 2021 гoдина нейната мисия е да създаде литографско оборудване, което ще позволи на китайските клиенти да изоставят западните аналози, като същевременно постигнат сравнимо ниво на технологично развитие. SMIC в своите предприятия до активното използване на китайско оборудване не по-рано от 2027 година.