След като GlobalFoundries се отказа от усвояването на 7 нанометровия технологичен процес, пред Samsung се разкриха нови възможности по укрепването на своите позиции в този сегмент. Порталът PC Watch Impress публикува изказванията на представителите на Samsung по време на профилно мероприятие в Япония. Ясно е, че корейският технологичен гигант не възнамерява да изпуска тази възможност.
Миналата година Samsung Foundry стана самостоятелен отдел в корпорацията. В рамките на това направление Samsung въвежда EUV литографията при производството на полупроводникови продукти чрез 7 нанометров технологичен процес. Това навярно ще стане по-късно от TSMC, но Samsung е особено агресивен по отношение на броя на слоевете.
Интересно е, че корейският производител планира първите образци, произведени чрез 4 и 5 нанометров FinFET технологичен процес да бъдат представени още следващата година. И още, през 2020 година компанията възнамерява да усвои 3 nm технология. 4 нанометровият технологичен процес ще бъде последният, в който се използват FinFET структури.
Представителите на Samsung заявиха, че 7 nm процес с EUV литография ще се използва за производството на графичните процесори от ново поколение.
Всичко важно от света на технологиите, директно в пощата ти.
С абонирането приемате нашите Условия и Политика за поверителност. Може да се отпишете с един клик по всяко време.
Коментирайте статията в нашите Форуми. За да научите първи най-важното, харесайте страницата ни във Facebook, и ни последвайте в Google Новини, TikTok, Telegram и Viber или изтеглете приложението на Kaldata.com за Android, iPhone, Huawei, Google Chrome, Microsoft Edge и Opera!
