В Япония е разработена опростена EUV литографска система – тя може да промени цялата индустрия

Професор Цумору Шинтаке от Института за наука и технологии в Окинава (OIST) е разработил значително опростена система за EUV литография, която е значително по-евтина от продуктите на нидерландската ASML, които се използват от водещи компании в бранша като Intel.

Предложената от професор Шинтаке EUV литографска система използва две огледала вместо шест. Ако устройството влезе в масово производство то може да промени индустрията за оборудване за производство на чипове, та дори и цялата полупроводникова индустрия.

Новата система използва само две огледала в своята оптична проекция, което е значителна промяна в сравнение с традиционната конфигурация с шест огледала. Новият съкратен оптичен път позволява на повече от 10 % от първоначалната EUV енергия да достигне до пластината, в сравнение с около 1 % при използваните в момента конфигурации, което е голям пробив.

Екипът на професор Шинтаке е решил два основни проблема в EUV литографията. Предотвратяването на оптичните аберации и осигуряването на ефективно предаване на светлината. Разработеният метод на „двойно линейно поле“ осветява фотопластината, като свежда до минимум изкривяването и подобрява точността на изображението върху силициевата пластина.

Едно от основните предимства на предложеното решение е повишената надеждност и лесната поддръжка на оборудването. Също толкова важно предимство на тази конструкция е радикалното намаляване на консумацията на енергия. Благодарение на оптимизирания оптичен път системата използва източник на EUV само 20 W, а общата консумация на енергия е по-малко от 100 kW, което е с един порядък по-малко от тази, необходима на конвенционалните системи за EUV литография. Намалената консумация на енергия води и до по-проста и по-евтина система за охлаждане.

Ефективността на новата система е подробно тествана с помощта на софтуер за оптично моделиране, което потвърждава способността ѝ да произвежда съвременни полупроводници.

Учените са подали заявка за патент, което показва, че новата технология е готова за комерсиализация. Разработчиците смятат, че новата система за EUV литография е важна стъпка към намаляване на консумацията на енергия и други разходи за производство на чипове, но не са посочени конкретни срокове за пускането на новия скенер на пазара.

Икономическите последици от изобретението са много обещаващи. Очаква се световният пазар на EUV литография да нарасне от 8,9 млрд. долара през 2024 година до 17,4 млрд. долара през 2030 година.