Европа получи ключът към ангстрьомните технологии на бъдещето – Imec инсталира новия EUV-скенер ASML EXE:5200

Белгийският изследователски център Imec се похвали с придобиването на най-новия EUV-скенер на ASML — TWINSCAN EXE:5200 с висока числена апертура от 0,55 (High Numerical Aperture). Скенерът ще осигури безпрецедентна резолюция за производството на полупроводници, гарантирайки силно търсене на тези технологии от производителите на чипове. Това ще позволи на Европа да продължи да бъде донор на технологични процеси, както е било в предходните десетилетия.

Новият скенер ще надмине оптичната разделителна способност на конвенционалните EUV-системи с NA от 0,33 и ще осигури повишена производителност при обработка на пластини, оперативна стабилност и скорост на процеса. Системата ще бъде разположена в чиста стая на Imec с оборудване за обработка на 300-мм пластини и ще служи като централен елемент на пилотната линия NanoIC, проектирана за ускоряване на разработката на технологии за производство на чипове с технологичен процес под 2 nm и за преход към “ерата ангстрьом“ (Ångström era).

Придобиването от Imec на едно от малкото подобни съоръжения в света допълнително подчертава лидерската роля на европейските разработчици на технологични процеси в подготовката на световната полупроводникова екосистема за следващото поколение производство на логика и памет.

Техническите предимства на EUV-системите с висока числова апертура (High-NA) включват възможността за отпечатване на по-малки структури с едно преминаване, опростяване на процесите, намаляване на разходите и увеличаване на добива. Системата EXE:5200 предлага повишена пропускателна способност, подобрена точност на съвместяване на елементите и съвместимост с новите материали за фоторезист (включително металооксидни фоторезисти), което е от решаващо значение за създаването на ултраплътни транзисторни масиви.

През последните две години Imec и ASML си сътрудничиха широко в съвместна лаборатория за високочестотна ултразвукова спектроскопия (High-NA EUV) във Велдховен, Холандия, където вече бяха постигнати световни рекорди за разделителна способност на линиите – например, линии с ширина 16 nm бяха произведени с един проход. Сега всичко това ще бъде възпроизведено в Imec на почти търговски линии, довеждайки изследването до индустриален мащаб с пълна интеграция във веригата за доставки на суровини, обработка и метрология.

Очаква се системата EXE:5200 да бъде напълно оперативна до четвъртото тримесечие на 2026 г. Дотогава изследванията на High-NA EUV ще продължат в съвместната лаборатория ASML-Imec във Велдховен, осигурявайки непрекъснатост на работата и за двамата партньори. Съоръжението на Imec ще позволи на екосистемата (водещи производители на чипове, доставчици на оборудване и доставчици на материали) да получи най-ранния и най-пълен достъп до технологиите от следващо поколение. Това е особено важно за разработването на енергийно ефективни ускорители с изкуствен интелект, памет с висока плътност и други приложения, изискващи изключителна миниатюризация.

Стратегическото значение на събитието се подчертава от тясното партньорство на Imec с ASML, подкрепата от Европейския съюз, белгийското и холандското правителство и финансирането чрез програмите Digital Europe и Horizon Europe. Придобиването на такава ценна и уникална система (всяка система се оценява на стотици милиони долари) потвърждава ролята на Imec като ключов трамплин за индустрията в „ерата на ангстрьомите“. Технологията с висока NA EUV се превръща в крайъгълен камък за разширяване на закона на Мур отвъд 2 nm, позволявайки рентабилно мащабиране и проправяйки пътя към чиповете A10/A7 и след това, което е от решаващо значение за конкурентоспособността на Европа в световната полупроводникова надпревара.