ASML тази година започва доставките на литографски скенери от следващо поколение

Литографските машини, съчетаващи свръхтвърдо ултравиолетово излъчване (EUV) и висока значение на числовата апертура (High NA), са основни инструменти за овладяване на така наречените „ангстрьомни“ технологии за процеси под 2 nm, така че способността на ASML да достави такива системи до края на тази година е от решаващо значение за нейните клиенти.

Да напомним, че Intel обяви намерението си да се сдобие с една от първите подобни системи (TWINSCAN EXE:5200) и да я инсталира в строящото се предприятие в Охайо до края на 2024 г., така че до 2025 г. то да може да се използва за производство на компоненти, използващи технологията Intel 18A. Разходите за един скенер от следващо поколение възлизат на 340 млн. долара в сравнение с обичайните 150 млн. долара за системите от сегашното поколение.

Както отбелязва Ройтерс, главният изпълнителен директор на ASML Питър Веннинк (Peter Wennink) потвърждава, че дори произтичащите от това забавяния затруднения няма да попречат на компанията да изпрати първите пилотни системи с висока числова апертура на своите клиенти до края на тази година. По думите му някои от доставчиците са изпитали известни проблеми с увеличаването на производството на необходимите компоненти, както и с качеството на продуктите, и това е довело до известни закъснения. Но дори и при такива условия първият екземпляр от новата литографска система ще бъде доставен до края на тази година, увери ръководителят на ASML.

Отделно той отбеляза, че ръстът на приходите на компанията от 30% през тази година ще се дължи на предимството на увеличените продажби на оборудване за дълбока ултравиолетова литография (DUV), което, наред с другото, е търсено от китайските клиенти. Това оборудване дори превъзхожда по-модерното оборудване за EUV литография в структурата на приходите на ASML. Въпреки това, според Венинк, изкривяването ще бъде коригирано през следващата година, тъй като новите съоръжения в Тайван и САЩ ще изискват по-модерно оборудване.