На изложението Canon Expo 2015 Tokyo, компанията Canon Inc демонстрира първите полупроводникови чипове, създадени с помощта на 11 нанометрова промишлена технология за нанопечатна литография (nanoimprint). Технологията е завършена и е вече готова за започване производството на полупроводникови елементи от следващо поколение.
Нанопечатната литография е технология за формиране елементите на процесори и други полупроводникови прибори с помощта на специални щампи. Сегашните технологии, базирани на обикновената литография се сблъскват с ограниченията за минимални размери на елементите, наложени от дължината на вълната на използваната светлина и на практика са достигнали прага на своите възможности. Новата технология на нанопечат няма ограничения, свързани с дължината на вълната и ще даде възможност за създаване на още по-малки по размер полупроводникови елементи.
Canon Inc работи върху новата технология съвместно с Toshiba Corp. Вече са създадени първите силициеви пластини с 11 нанометрови чипове. Предстои комерсиализация на новата технология.
Очаква се, че първите електронни компоненти, произвеждани чрез тази технология ще бъдат чипове NAND флаш-памет. Новата технология е по-бавна от обикновената литография, но дава възможност за създаване на още по-миниатюрни и икономични електронни устройства.
Всичко важно от света на технологиите, директно в пощата ти.
С абонирането приемате нашите Условия и Политика за поверителност. Може да се отпишете с един клик по всяко време.
Коментирайте статията в нашите Форуми. За да научите първи най-важното, харесайте страницата ни във Facebook, и ни последвайте в Google Новини, TikTok, Telegram и Viber или изтеглете приложението на Kaldata.com за Android, iPhone, Huawei, Google Chrome, Microsoft Edge и Opera!
