2 nm чиповете са все по-близо: Японската Rapidus получи първия скенер за EUV литография от ASML

Японската полупроводникова компания Rapidus очаква до 2027 година да започне масово производство на 2 nm полупроводникови продукти, поръчани от различни клиенти. Компанията очаква да има прототипи на продукти от този клас в производство още през април следващата година. За тази цел тя е започнала да сглобява литографско оборудване на ASML, което вече получава през летището на остров Хокайдо.

Според DigiTimes, позовавайки се на японски медии, Rapidus е провела символична церемония тази седмица, на която получи първия ASML Twinscan NXE:3800E EUV литографски скенер – ултратвърдо ултравиолетово излъчване. Такова оборудване се използва при производството на 2nm чипове и за първи път влиза в Япония за използване в производството на полупроводникови компоненти.

Компанията не уточни колко от тези системи ще получи Rapidus, за да започне пилотно производство на 2 nm чипове до април 2025 година, но даде да се разбере, че една или две няма да са достатъчни. Всяка система се транспортира в няколко големи контейнера, тежи 71 тона, когато е сглобена и е висока 3,4 метра. Инсталирането на такова оборудване предполага добра защита срещу сеизмични въздействия, което е доста актуално за Япония.

Според представители на Rapidus подготовката за овладяване на производството на 2 nm чипове върви по план. Компанията е изпратила на обучение в САЩ около 150 технически специалисти, които трупат опит в IBM. Към момента на стартиране на пилотното производство на 2 nm чипове през април следващата година компанията ще разполага с 300-400 служители. Rapidus очаква да получи оборудването на ASML, необходимо за започване на пилотното производство на 2 nm чипове, до края на тази година.