ASML обмисля пускането на литографски инструменти, специално предназначени за китайския пазар

Нидерландската компания ASML възнамерява да произведе специална версия на своите скенери за DUV литография на полупроводници, предназначена опционално за Китай. Подобни инструменти с понижени параметри и възможности ще отговарят на най-новите ограничения на САЩ и могат да се доставят в Близкия изток без специален лиценз за износ.

Ако проектът бъде осъществен, SMIC, Hua Hong и други китайски компании за производство на полупроводници ще продължат да използват оборудване от Нидерландия за производството на чипове по 28 nm и по-зрели технологични процеси. Оборудването обаче няма да може да произвежда по-съвършени чипове.

По-специално, литографската система Twinscan NXT:1980Di е най-неефективният модел на компанията в гамата на ASML към днешна дата. Независимо от това системата поддържа оптика с числова апертура NA 1,35 и осигурява разделителна способност <38 nm.

Изкуственото влошаване на хардуерните характеристики, за да се попречи на SMIC и други китайски компании да произвеждат чипове под 28 nm, е напълно възможно. В същото време SMIC ще може да получава лъвския пай от приходите си от продажбата на чипове, произведени в съответствие с 28 nm или по-висока технология, така че китайските компании може да проявят жив интерес към придобиването дори на подобни машини от ASML.

Най-новите нидерландски разпоредби за износ изискват ASML да получи лицензи за износ, за да доставя скенерите Twinscan NXT:2000i на китайски производители. Въпреки че ASML все още не е произвела версия на оборудването с ограничени възможности, ако ограниченията за износ продължат да се затягат, производството на подобни варианти е твърде вероятно.