ASML разкри кога ще създаде машини за производство на 5 nm чипове

Компанията ASML е уникален представител на холандската високотехнологична индустрия, тъй като само тя произвежда литографски скенери, които позволяват производството на най-съвременните полупроводникови компоненти. Ако се вярва на представителите на ASML, „Законът на Мур“ ще остане актуален и през следващите години, тъй като на производителите на чипове ще се предлага все по-усъвършенствано оборудване.

Както е отбелязано в интервюто за Nikkei Asian Review на Йос Беншоп, изпълнителен вицепрезидент по технологиите на ASML, днес единствено компанията е в състояние да предложи на клиентите си литографски скенери за работа със екстремно ултравиолетово лъчение (EUV). Според изпълнителния директор ASML дължи успеха си на широката си мрежа от партньори и контрагенти като Carl Zeiss, тъй като в такъв сложен бизнес първоначално не е имала ресурсите да произвежда всичко на място. При сегашните мащаби на бизнеса широкото сътрудничество все още носи своите предимства.

Най-модерните литографски скенери, които ASML предлага в момента, предлагат разделителна способност от 8 nm при едно преминаване. В същото време ASML и Carl Zeiss вече разработват оборудване с разделителна способност от 5 nm. То ще се появи на пазара до 2035 година и ще позволи по-бързо производство на чипове и по-високо качество.

Освен това Йос Беншоп заяви, че ASML работи върху увеличаването на числената апертура на своето оборудване. Колкото по-голям е този параметър, толкова по-фини структури могат да се създават върху силициевата пластина. Стандартните EUV скенери имат цифрова апертура от 0,33, докато последното поколение такова оборудване има апертура от 0,55 и принадлежи към High-NA клас. За да се повиши стойността на апертурата до 0,7, много от ключовите системи, от които се състоят литографските скенери трябва да бъдат основно преработени, обясни говорителят на ASML. Той не уточни кога такова оборудване ще се предлага на пазара.

Въпреки че ASML вече доставя образци на High-NA EUV скенери на Intel и TSMC, масовото им приложение ще започне едва в края на това десетилетие или в началото на следващото, според изпълнителния вицепрезидент на компанията. ASML разработва основната технология EUV от 1997 година насам, а основните ѝ принципи са формулирани още в средата на 80-те години на миналия век. Въпреки това ASML така и не успя да създаде първите EUV системи преди 2006 година, а масовото производство не започна до 2019 година.

Миналата година ASML е похарчила 16 млрд. евро за компоненти и материали. От 2015 година насам компанията забележимо е увеличила и разходите си за научноизследователска и развойна дейност. По-точно, те са нараснали от 1,1 млрд. евро до 4,3 млрд. евро до миналата година.