Китай почти е постигнал „основна самодостатъчност“ в производството на оборудване за производство на чипове

Въпреки санкционната политика от страна на САЩ и западните държави, Китай активно развива своята полупроводникова индустрия. Джералд Ин Чжияо, ръководител на AMEC – компания, която произвежда оборудване за ецване на силициеви пластини заяви, че Китай може да постигне „основна самодостатъчност“ в производството на оборудване за микрочипове това лято, но изостава с 5-10 години по отношение на качеството и надеждността, пише издание SCMP.

„Мислех, че ще ни трябват поне 10 години, за да намерим решение, но благодарение на съвместните усилия на стотици компании през последните две години можем да постигнем основна самодостатъчност още това лято.“

казва 80-годишният Ин, който преди това е работил в Intel, Lam Research и Applied Materials

САЩ засилват натиска чрез санкциите си върху китайския сектор за производство на чипове от октомври 2022 година, когато за първи път ограничиха износа на оборудване за китайските производители на усъвършенствани чипове. През октомври миналата година САЩ допълнително затегнаха правилата за контрол на износа, като забраниха на нидерландската ASML да продава на китайски клиенти още няколко литографски системи за производство на чипове.

Наложените ограничения принудиха китайските доставчици да се обединят, за да намерят решение. Според главния изпълнителен директор на AMEC в момента 60 % от частите, използвани в оборудването за ецване, което произвежда неговата компания, се доставят на вътрешния пазар, а делът на местните компоненти в оборудването за химическо отлагане на пари за металоорганични съединения достига 80 %.

Въпреки това Ин отбелязва, че Китай все още изостава от световните лидери в сектора на оборудването за производство на чипове. По негови изчисления местното оборудване в китайските заводи за чипове съставлява от 15 до 30 %, а останалото е чуждестранно. Сред слабите страни на китайските компании Ин посочи системите за литография, оборудването за йонна имплантация и системите за инспекция с електронен лъч.