Напук на санкциите на САЩ: В Китай е представен 28 nm литографски скенер за производство на чипове

Китайският разработчик на оборудване за производство на чипове Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) представи първия си литографски скенер, който може да обработва пластини по 28 nm технологичен клас. Съобщава се, че скенерът се нарича SSA/800-10W и представлява голям пробив за компанията, тъй като съществуващите машини от серията SSA600 поддържат 90, 110 и 280 nm технологични процеси.

Изглежда, че SMEE е изпълнила по-ранното си обещание да представи инструмент за литография, поддържащ 28 nm технология до края на тази година. Постижението представлява голям скок в стремежа на Китай да намали изоставането си от световната индустрия за чипове, въпреки че новото устройство отстъпва на инструментите на пазарния лидер – холандската ASML и перспективите му за масово производство са неясни. Акциите на SMEE поскъпнаха с 8% след появата на новината за новата литографска машина.

Трябва да се отбележи, че лидерът в бранша TSMC произвежда чипове по 28 nm процес от 2011 година, докато китайската SMIC въведе подобна технология през 2015 година. Въпреки това, и SMIC и TSMC използват литографски инструменти на ASML за производството на съответните си чипове.

Неотдавнашните разпоредби за износ, наложени от правителството на САЩ не позволяват на китайските производители на чипове да придобиват необходимото оборудване и технологии за производство на усъвършенствани чипове на процеси, по-малки от 14/16 nm, 3D NAND чипове с повече от 127 активни слоя и DRAM чипове с половин стъпка, по-малка от 18 nm.