Японската Canon разработва ново поколение литографско оборудване за производство на полупроводници, способно да се конкурира с продуктите на холандската ASML, която на практика е монополист на пазара на подобни решения. Изграждането на завод от нов тип в Япония ще бъде отговорът на вложените инвестиции в същата сфера от страна на конкуренцията в САЩ, Южна Корея и Тайван.
На първия етап финансирането е в размер на 345 милиона долара, включително разходите за изграждане и инсталиране на производствено оборудване. Заводът трябва да започне производството на новите машини през пролетта на 2025 година. В резултат от това компанията ще удвои производствения си капацитет в тази ниша. Canon не само възнамерява да разшири производството, но и залага на нови технологии, благодарение на които ще може да се произвеждат полупроводници от ново поколение на ниски цени. Днес тя произвежда литографско оборудване в две фабрики в Япония, което се използва за производство на чипове, които са подходящи за системите за управление на автомобилите.
Новият завод ще бъде изграден върху площ от 70 000 квадратни метра на мястото на съществуващо производствено съоръжение. Това ще бъде първото ново литографско съоръжение на Canon от 21 години насам, като строителството ще започне през 2023 година. През 2022 година се очаква продажбите на литографско оборудване да нараснат с 29% на годишна база до около 180 машини – четири пъти повече от преди десетилетие. Новият завод е проектиран да задоволи нарастващото търсене на подобна техника.
Според World Semiconductor Trade Statistics миналата година световният пазар на полупроводници е надхвърлил 500 милиарда долара, което се случва за първи път в историята. Очакванията са той през 20230 година той да надхвърли 1 трилион долара. Днес Canon контролира около 30% от световния пазар на литографско оборудване по обем и е на второ място след ASML, която владее 60%. Наскоро Intel и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) също обявиха плановете си за изграждане на нови вътрешни фабрики в САЩ и други страни. Canon решиха да последват примера им.
По-важното е, че японската компания е разработила и технология от следващо поколение, която нарече нанопечатна литография. С тази технология е възможно производството на най-модерните чипове при на по-ниски цени от сега съществуващото литографско оборудване. Процесът е опростен благодарение на техника, която дава възможност буквално за щамповане на чертежите на интегралните схеми, което може значително да намали производствените разходи. В разработването на новата технология са участвали и японските компании Kioxia и Dai Nippon Printing.
Днес най-незаменима е технологията, използваща EUV литография за формиране в кристалите на вериги от нанометрово ниво. Единственият автор, създател и производител на машини, в които се използва тази технология, е нидерландската ASML. Това оборудване е много скъпо – приблизително 138 милиона за една машина, като консумацията на електрическа енергия е огромна. Canon заяви, че може да намали с 40% цената на литографията, а консумацията на енергия да свали с цели 90%. Ако това се случи Canon наистина ще разклати господството на ASML на тзи пазар.