Intel скоро ще инсталира втори литографски High-NA EUV скенер на ASML – той ще произвежда 1,4 nm чипове

Първият High-NA EUV литографски скенер беше доставен на Intel от ASML още през декември миналата година, инсталирането му в изследователския център в Орегон приключи през април, а на миналата 3-месечна конференция главният изпълнителен директор на Intel потвърди, че компанията e получила втора такава машина от ASML.

Това изявление на главния изпълнителен директор Патрик Гелсингер, както отбелязва Ройтерс остана незабелязано на фона на лошия тримесечен отчет, но споменаването на този факт все пак прозвуча.

„Вторият High-NA EUV скенер беше доставен в нашия завод в Орегон.“

обясни лаконично шефът на Intel, като добави, че ранните инвестиции на компанията в модерни технологии се представят добре

Както е известно, Intel ще се нуждае от такова оборудване, за да произвежда чипове по обещаващата технология Intel 14A от 2027 година, но на нивото на експериментиране възнамерява да го използва в рамките на по-зрелия процес Intel 18A.

В средата на юли представители на ASML също признаха, че компанията е започнала доставката на High-NA EUV литографска машина на определен клиент, и ако сравним това изявление с признанията на ръководителя на Intel, става ясно, че става въпрос за тази компания. Intel ще изплати парите за първия литографски скенер от този клас до края на тази година, а плащането за втория може да се случи през следващата година. Всяка такава машина струва 350 млн. евро.

ASML вече има поръчки за повече от 10 такива системи, като сред клиентите ѝ са Intel, TSMC, Samsung, SK hynix и Micron. TSMC твърди, че няма да се нуждае от такива скенери, за да произвежда чипове, използващи технологията A16, но не се отказва да експериментира с такова оборудване. Изброените по-горе производители на памет очакват да започнат да използват EUV литографи с висока числова апертура от 2025 до 2026 година.