Екстремната ултравиолетова литография (EUV) може значително да намали разходите за производство на 7 nm и по-съвършени полупроводникови компоненти, поради което санкциите на САЩ срещу Китай са насочени към ограничаване на достъпа на тази страна до такива технологии. Оказва се,...
Китайският разработчик на оборудване за производство на чипове Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) представи първия си литографски скенер, който може да обработва пластини по 28 nm технологичен клас. Съобщава се, че скенерът се нарича SSA/800-10W и представлява...
