Първият High-NA EUV литографски скенер беше доставен на Intel от ASML още през декември миналата година, инсталирането му в изследователския център в Орегон приключи през април, а на миналата 3-месечна конференция главният изпълнителен директор на Intel потвърди, че компанията...
Наскоро холандската компания ASML извърши тестово отпечатване върху силициева подложка с помощта на своя скенер за High-NA EUV литография.
Intel скоро ще повтори същия експеримент, след като завърши инсталирането на първата система Twinscan EXE:5000 в своя изследователски център в...
Базираната в Нидерландия компания ASML обяви създаването на първите образци на полупроводници с помощта на първия си литографски скенер със свръхтвърдо ултравиолетово лъчение и проекционна оптика с висока числова апертура от 0,55 (High-NA EUV).
Събитието е крайъгълен камък не...
В края на миналата година ASML достави на Intel първата си система за екстремна ултравиолетова литография (EUV) с висока разделителна способност. През изминалия уикенд процесорният гигант публикува видеоклип, в който се отразява инсталирането на супермодерната машина във фабриката близо...
