От 2019 година насам холандската компания ASML е лишена от правото да доставя в Китай съвременно EUV оборудване за производство на чипове и на практика не е доставила там нито един литографски скенер от този клас, който позволява производството...
Литографските скенери са необходими за производството на полупроводникови компоненти, но доставките им са съсредоточени в ръцете на ограничена група западни компании. В опитите си да настигне Запада, китайската полупроводникова промишленост е принудена да разчита на собствените си сили в...
По време на поредица от неотдавнашни срещи пред висши ръководители на ASML министърът на търговията на САЩ Хауърд Лутник е изразил своята загриженост, че една от машините за екстремно ултравиолетова литография на холандския компанията - EUV системите са единствените...
Учен от Института за наука и технологии в Окинава, Япония (OIST) предложи радикално опростяване на оптичната схема на EUV литографията - ключовата технология, с помощта на която днес се произвеждат най-модерните чипове. Професор Цумору Шинтаке е разработил вариант на...
Холандската компания ASML рядко обсъжда открито отношенията и споразуменията си с клиентите, но понякога те стават обществено достояние. Тази седмица стана известно, че южнокорейската SK hynix ще инвестира 7,9 млрд. долара до 2027 година включително в закупуването на литографски...
През трите години, изминали от пускането на GPT-3.5, изкуственият интелект се превърна в глобална тенденция, а технологичните гиганти от Китай и САЩ инвестират огромни средства в неговото развитие. Само през тази година компании като Google, OpenAI, Microsoft и Amazon...
Нидерландският технологичен гигант ASML потвърди амбициозните си финансови цели за края на десетилетието, прогнозирайки годишни приходи в диапазона между 44 милиарда и 60 милиарда евро (приблизително $71 милиарда) до 2030 г. Според анализа на Tom's Hardware, компанията залага на...
Свръхсекретната китайска лаборатория в Шънджън е сглобила прототип на машина за екстремна ултравиолетова (EUV) литография - технология, която днес определя кой може да произвежда най-модерните процесори за изкуствен интелект, смартфони и прецизни оръжия. Ройтерс научи, че машината е построена...
Миналата есен японската компания Canon изпрати за тестване на Intel първата си установка за изготвяне на прогресивни чипове чрез нанопечат. Според производителя, тази технология намалява разходите за оборудване при производство на 5-nm чипове и значително спестява енергия. Компанията DNP...
Китайската компания Hefei Lumiverse Technology представи първия в света настолен източник на екстремно ултравиолетово лъчение (EUV), на базата на генериране на високи хармоници (HHG), който вече се използва в производството на 14 nm чипове. За разлика от гигантските литографски...
При EUV литографите на ASML се използват газови лазери с CO₂ като основа на светлинния източник. Те са доста мощни, но обемисти и неефективни в сравнение с твърдотелните лазери. От друга страна, твърдотелните лазери са с ниска мощност и...
Още през месец април тази година Rapidus ще стартира пилотна производствена линия в Япония за производство на 2 nm чипове. В края на миналата година тя вече получи първия литографски скенер на ASML, който позволява производството на подобни продукти....
На фона на растящото производство на полупроводници в САЩ, Япония и Южна Корея Fujifilm, която е не само производител на фотоапарати, но и основен производител на суровини за полупроводниковата индустрия и един от малкото доставчици на свръхчисти фоторезисти за...
През април тази година Кристоф Фуке пое поста на главен изпълнителен директор на ASML - холандската компания, която снабдява повечето от световните производители на чипове с литографски скенери. Досега Фуке имаше малко публични изяви извън тримесечните отчетни събития.
В...
Японската полупроводникова компания Rapidus очаква до 2027 година да започне масово производство на 2 nm полупроводникови продукти, поръчани от различни клиенти. Компанията очаква да има прототипи на продукти от този клас в производство още през април следващата година. За...
По традиция холандският доставчик на литографско оборудване ASML откри сезона на тримесечните отчети, но случайно (или пък не) го направи с един ден по-рано от предвиденото. Инвеститорите бяха разочаровани от две събития: по-ниската прогноза за приходите за следващата година...
Екстремната ултравиолетова литография (EUV) може значително да намали разходите за производство на 7 nm и по-съвършени полупроводникови компоненти, поради което санкциите на САЩ срещу Китай са насочени към ограничаване на достъпа на тази страна до такива технологии. Оказва се,...
TSMC се подготвя да монтира първия си скенер за EUV литография High-NA до края на септември. Системата ASML Twinscan EXE: 5000 е предназначена за научноизследователска и развойна дейност и ще бъде разположена в центъра на компанията в Синджу, Тайван....
Холандските власти планират да ограничат възможността на ASML да ремонтира и обслужва оборудване за производство на полупроводници в Китай, нанасяйки още един болезнен удар върху способността на Китай да развива полупроводниковата си промишленост на световно ниво.
Очаква се холандското правителство...
Samsung възнамерява да започне инсталирането на първата си система за високотехнологична EUV литография до края на 2024 г. - началото на 2025 г. Скенерът, разработен от ASML, ще се използва за изследване и разработване на нови процеси, необходими за...
Професор Цумору Шинтаке от Института за наука и технологии в Окинава (OIST) е разработил значително опростена система за EUV литография, която е значително по-евтина от продуктите на нидерландската ASML, които се използват от водещи компании в бранша като Intel....
Първият High-NA EUV литографски скенер беше доставен на Intel от ASML още през декември миналата година, инсталирането му в изследователския център в Орегон приключи през април, а на миналата 3-месечна конференция главният изпълнителен директор на Intel потвърди, че компанията...
Още през май ASML, лидерът в сегмента на литографските скенери обяви перспективата за системи със свръхвисока числова апертура от 0,75 (Hyper-NA EUV) до началото на следващото десетилетие.
Представители на Imec твърдят, че литографията няма да се отдалечи от използването...
На конференцията Imec ITF World 2024 ASML съобщи, че е успяла да счупи собствения си рекорд за плътност на транзисторите с първия си литографски скенер с висока числова апертура (High-Numerical Aperture - High-NA), поставен преди малко повече от месец....
Тайван и в частност TSMC произвежда повече от 90% от чиповете в света, използвайки усъвършенствана литография. От 2016 година насам ASML е доставила на своите клиенти повече от 200 скенера за EUV литография, много от които вече работят в...
